無論監視器的精度如何，它隻能控製真空室中單個點的膜厚，一般來說，即工件夾持器的中間位置。如果真空電鍍設備的該位置處的膜厚度不是絕對均勻的，則遠離中心的基板不能獲得均勻的厚度。雖然屏蔽可以消除長期的不均勻性，但某些膜厚度變化是由於蒸發源的不穩定性或膜材料的不同性能造成的，因此幾乎不可能消除它們。然而，適當選擇真空室和蒸發源的結構可以最小化這些影響。
在過去幾年中，越來越多的用戶要求塗層係統製造商提供高性能、小規模和簡單的光學塗層係統。同時，用戶對性能的要求並沒有降低，而是得到了改善，特別是在薄膜密度和最大限度地減少吸水後的光譜變化方麵。
現在，該係統的平均尺寸已經減小，用小型設備生產光學塗層也成為一個純粹的技術問題。因此，選擇現代光學塗層係統的關鍵在於仔細考慮以下因素：塗層產品的預期性能、基材的尺寸和物理特性，以及確保高度一致的工藝所需的所有技術因素。